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UV紫外线清洗机原理与功能
发布时间:2019/9/16 10:52:56 点击次数:

 

    目前,紫外UV臭氧清洗机广泛应用于半导体,电子学,纳米技术,化学,生物学,光学等领域。

UV清洗机是一种利用特定波长的紫外线打断有机物的分子键结使其具有一定的亲水能力,更容易被水清洗。再者紫外线能使空气中的氧气转化成臭氧,氧化分解有机物——(水 一氧化碳 二氧化碳)从而达到对物体便面的清洁。

紫外臭氧表面清洗应用范围较广,在材料研究和器件制造等很多领域都有应用。可以用于硅片和塑料包装的表面清洗;用于在MOCVDALD工艺之前对III-V复合半导体晶圆片(GaAslnP)进行表面清洗;用于玻璃、PDMSPMMACOCCOP等基材的直接清洗;适用于各类材质表面的有机污染物清洗

 

低压紫外汞灯发射的185nm254nm波长的紫外光除有物体表面的有机污染物的功能外,而且还能进行表面改质。其基本原理为:光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子,与空气中的氧气分解出来的活性氧(O)生成极性很强的原子团(OH,CHO,COOH)即羟基等活性基,同时材料表面有机污染物的清洗效果显著,活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性,这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合形成新的化学键,可以使材料表面得到很强的粘结强度或使材料得到稳定的表面性能。